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    第11屆先進玻璃國際會議參展實況(2024.4.22-4.24)
    第11屆先進玻璃國際會議參展實況(2024.4.22-4.24)

    春風暖日之際,由中國硅酸鹽協(xié)會,中國日用玻璃協(xié)會,上海市硅酸鹽協(xié)會,東華大學,先進玻璃制造技術(shù)教育部工程研究中心,中國輕工業(yè)特種玻璃及搪瓷重點實驗室共同舉辦,于2024.4.22-4.24在上海松江大學城東華大學的圖文信息中心隆重舉行,在本次以《雙碳新時代:玻璃的機遇與再生》為主題的第11屆先進玻璃國際會議上,我公司受邀作為玻璃相關(guān)材料及裝備的供應商參加了此次會議,展示了公司代理的科晶集團(沈陽科...

    2024-04-23
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    • 混合箱式爐的維護保養(yǎng)要點有哪些?

      混合箱式爐,作為一種高效且多功能的加熱設備,在眾多工業(yè)領域有著廣泛的應用。然而,為了確保其長期穩(wěn)定的運行和延長使用壽命,定期的維護保養(yǎng)至關(guān)重要。一、日常檢查每日操作前,應仔細檢查外觀是否有明顯的損傷或變形,各連接部位是否緊固無松動。此外,還需檢查爐內(nèi)是否有殘留物,若有應及時清理,以免影響加熱效果。二、定期清理在使用過程中,容易積累灰塵、雜質(zhì)等污物。這些污物不僅會影響爐內(nèi)的熱效率,還可能導致爐膛堵塞、加熱元件損壞等問題。因此,應定期對爐內(nèi)進行清理,一般建議每季度進行一次全面清理...

      202411-13
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    • PECVD等離子體增強氣相沉積在薄膜太陽能電池中的應用說明

      PECVD等離子體增強氣相沉積技術(shù),在薄膜太陽能電池的生產(chǎn)過程中占據(jù)著重要的地位。這一技術(shù)手段不僅提高了太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率,還大幅降低了生產(chǎn)成本,為太陽能電池的大規(guī)模商業(yè)化應用奠定了堅實基礎。在薄膜太陽能電池的制作中,PECVD主要用于沉積薄膜材料。與其他傳統(tǒng)的沉積方法相比,具有諸多優(yōu)勢。它能夠在較低的溫度下完成薄膜的沉積,這對于保護電池中的敏感材料和結(jié)構(gòu)至關(guān)重要。同時,能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的薄膜厚度控制,這對于電池性能的一致性和穩(wěn)定性有著至關(guān)重要的影響。PECVD等離子體增強氣...

      202410-21
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    • 提高研磨拋光機效率的實用建議

      研磨拋光機是制造業(yè)中的重要設備,廣泛應用于金屬、陶瓷、玻璃等材料的表面處理。為了提高生產(chǎn)效率和降低成本,以下是一些實用的改進建議。一、優(yōu)化工藝流程先要對整個研磨拋光工藝流程進行全面梳理和優(yōu)化。明確每個工序的目標和要求,合理安排工序順序,減少不必要的中間環(huán)節(jié)。同時,引入自動化和智能化技術(shù),實現(xiàn)生產(chǎn)線的高效運轉(zhuǎn)。二、選用合適的研磨拋光材料選擇合適的研磨拋光材料是提高效率的關(guān)鍵。根據(jù)待處理材料的性質(zhì)和要求,選擇具有適當硬度、粒度和形狀的磨料。同時,合理控制磨料的濃度和供給量,以確保...

      20249-16
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    • 如何優(yōu)化真空感應熔煉爐的操作流程?

      真空感應熔煉爐是一種熔煉設備,廣泛應用于航空航天、汽車制造、機械工程等領域。為了提高生產(chǎn)效率、降低成本并確保產(chǎn)品質(zhì)量,優(yōu)化操作流程至關(guān)重要。以下是一些建議和措施,以幫助您優(yōu)化操作流程。一、前期準備1.設備檢查與維護在開始熔煉之前,務必對真空感應熔煉爐進行全面檢查,確保設備處于良好狀態(tài)。檢查內(nèi)容包括電氣系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、真空系統(tǒng)等。定期對設備進行維護保養(yǎng),以延長使用壽命。2.原材料準備確保原材料的質(zhì)量符合要求,避免因雜質(zhì)過多或成分不均導致熔煉失敗,對原材料進行適當?shù)念A處理。二、操...

      20249-14
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    • 真空感應熔煉爐的能源消耗與成本控制

      真空感應熔煉爐是一種高效、節(jié)能的金屬熔煉設備,廣泛應用于航空航天、冶金、機械制造等領域。一、能源消耗特點真空感應熔煉爐的能源消耗主要包括電能、燃料消耗和輔助設備能耗等。其中,電能是主要的能源消耗部分,主要用于加熱、攪拌和真空抽氣等過程。燃料消耗主要發(fā)生在需要輔助加熱的情況下。輔助設備能耗則包括水泵、風機、冷卻系統(tǒng)等的能耗。二、影響能源消耗的因素能源消耗受到多種因素的影響,如熔煉材料的種類和性質(zhì)、熔煉工藝參數(shù)、設備的設計和制造水平、操作人員的技能水平等。因此,在實際生產(chǎn)過程中,...

      20249-2
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    • PECVD等離子體增強氣相沉積設備的選擇與維護指南

      在半導體和材料科學領域,PECVD等離子體增強氣相沉積技術(shù),扮演著至關(guān)重要的角色。選擇合適的設備并對其進行規(guī)范維護是確保生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素。選擇設備時,應考慮其反應腔室的設計是否符合生產(chǎn)需求,真空系統(tǒng)是否能快速達到所需真空度并保持穩(wěn)定,以及氣體分配系統(tǒng)是否能夠確保氣體均勻分布。氣體流量控制器的精確性對于薄膜的均勻性和重復性同樣重要。此外,射頻發(fā)生器的功率穩(wěn)定性和電極設計也直接影響到薄膜的質(zhì)量。維護PECVD等離子體增強氣相沉積設備需遵循嚴格的操作流程。每日檢查包括確...

      20248-21
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    • CVD氣相沉積的原理與應用說明

      CVD氣相沉積是一種重要的材料制備技術(shù),廣泛應用于微電子、光電子、納米科技等領域。通過CVD技術(shù),可以在各種基底上沉積出高質(zhì)量、高性能的薄膜材料。一、原理CVD氣相沉積的基本原理是將氣態(tài)前驅(qū)體導入反應室,在熱激發(fā)或等離子激活的作用下,發(fā)生化學反應生成固態(tài)物質(zhì),并沉積在基底上形成薄膜。根據(jù)反應條件的不同,CVD技術(shù)可以分為熱CVD、等離子體增強CVD(PECVD)、激光誘導CVD等多種類型。在熱CVD中,反應室被加熱至高溫,使氣態(tài)前驅(qū)體發(fā)生熱分解或化學反應,生成固態(tài)沉積物。而在...

      20248-12
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    • 如何正確操作和維護真空氣氛管式爐?

      真空氣氛管式爐是一種實驗設備,廣泛應用于材料科學、化學工程等領域。為了確保其正常運行和延長使用壽命,需掌握正確的操作方法和維護技巧。一、操作前準備檢查電源、水源和氣源是否正常,確保管路無泄漏。檢查真空泵油是否充足,如有不足請及時添加。檢查爐體內(nèi)部是否干凈,如有雜物請及時清理。根據(jù)實驗要求,準備好所需的樣品和試劑。二、操作步驟打開電源開關(guān),設定溫度和時間參數(shù)。開啟真空泵,對爐體進行抽真空處理,確保爐內(nèi)真空度達到要求。通入所需氣氛氣體,調(diào)整氣體流量至合適范圍。將樣品放入爐膛中部,...

      20248-6
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    • 了解研磨拋光機的操作規(guī)程與安全指南

      研磨拋光機是一種廣泛應用于金屬、陶瓷、玻璃等表面加工的設備。為了確保操作人員的安全和設備的正常運行,需嚴格遵守操作規(guī)程和安全指南。一、操作規(guī)程開機前準備:檢查電源線、插頭和插座是否完好無損。確保轉(zhuǎn)速與所加工的材料相匹配。安裝好所需的研磨拋光片或磨頭。清潔工作臺和周圍區(qū)域,確保無雜物干擾操作。開機操作:打開電源開關(guān),檢查電機是否正常運轉(zhuǎn)。調(diào)整轉(zhuǎn)速,使其達到所需的工作速度。將工件放置在工作臺上,固定好夾具。開啟拋光機,按照工藝要求進行操作。加工過程中注意事項:保持穩(wěn)定的操作姿勢,...

      20247-23
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    • 真空管式爐在金屬熱處理工藝中的優(yōu)勢說明

      金屬熱處理工藝是提升金屬材料性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié),而真空管式爐在這一領域扮演著舉足輕重的角色。其結(jié)構(gòu)和加熱方式,使得金屬熱處理在精度、效率和質(zhì)量上得到了顯著提升。1、更大優(yōu)勢在于其提供了一個真空的加熱環(huán)境。在真空狀態(tài)下,金屬表面不會與氧氣、水蒸氣等發(fā)生化學反應,從而避免了氧化和脫碳現(xiàn)象的發(fā)生。這對于需要保持金屬純凈度和表面光潔度的熱處理工藝來說至關(guān)重要。在不銹鋼的熱處理中,能夠有效防止不銹鋼表面產(chǎn)生氧化層,確保其耐腐蝕性能不受影響。2、加熱效率較高。由于采用了加熱元件和保溫材料,能...

      20247-9
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    • PECVD等離子體增強氣相沉積的硬件組成與功能解析

      PECVD等離子體增強氣相沉積是一種薄膜沉積技術(shù)。它利用等離子體的特殊性質(zhì),在低溫、低壓條件下實現(xiàn)高質(zhì)量薄膜的沉積。一、真空系統(tǒng)PECVD等離子體增強氣相沉積中的真空系統(tǒng)主要包括真空泵、真空室、真空閥等部件。真空泵負責將真空室內(nèi)抽至所需的真空度,為化學反應提供低氣壓環(huán)境。真空室則是薄膜沉積的主要場所,內(nèi)部配備有加熱元件和載物臺,用于放置待沉積基片。二、氣體供應系統(tǒng)氣體供應系統(tǒng)包括氣瓶、氣體質(zhì)量流量計、氣體混合器等部件。氣瓶內(nèi)儲存有用于沉積薄膜所需的氣體,如硅烷、氨氣等。氣體質(zhì)...

      20247-2
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    • 關(guān)于混合箱式爐的設計優(yōu)勢與應用范圍說明

      混合箱式爐作為一種高效、節(jié)能且環(huán)保的新型熱處理設備,已在多個領域得到廣泛應用。一、設計優(yōu)勢高效節(jié)能:采用加熱技術(shù)和保溫材料,使得爐內(nèi)溫度分布均勻,熱量損失小,從而實現(xiàn)了高效節(jié)能的目標。與傳統(tǒng)爐型相比,可大幅降低能耗,提高生產(chǎn)效率。均勻加熱:內(nèi)部采用特殊的加熱元件和結(jié)構(gòu)設計,使得爐內(nèi)溫度分布更加均勻。這有助于保證工件在加熱過程中的均勻受熱,從而提高工件的加熱質(zhì)量和熱處理效果。綠色環(huán)保:采用清潔能源作為加熱源,如電能、天然氣等,避免了傳統(tǒng)燃料爐產(chǎn)生的廢氣、廢渣等污染物。此外,爐內(nèi)...

      20246-28
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