PECVD等離子體增強氣相沉積是一款1200℃等離子增強混合物理化學(xué)氣相沉積（HPCVD)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)源（帶自動匹配功能）、上游原位蒸發(fā)舟、4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)及性能優(yōu)異的真空泵組成。此于無機復(fù)合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆（如：制備鋰離子電池陰極粉末的導(dǎo)電涂層等）。

1200℃等離子增強HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)，OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等離子增強混合物理化學(xué)氣相沉積（HPCVD)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)源（帶自動匹配功能）、上游原位蒸發(fā)舟、4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)及性能優(yōu)異的真空泵組成。此于無機復(fù)合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆（如：制備鋰離子電池陰極粉末的導(dǎo)電涂層等）。