OTF-1200X-PGEP是一款多功能的合成系統，針對于合成各種納米結構氧化物以及納米材料的復合包覆工藝。此款儀器有三個主要模塊組成：超聲霧化裝置、1200℃管式爐和高壓靜電收集裝置組成。材料制作大概分為三個步驟：前驅體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統是一款非常先進的合成系統，可廣泛應用于納米材料制備、電極材料包覆復合等方面。

系統結構：

霧化裝置：配有一個1.7MHz超聲霧化儀，可將液體霧化成液體顆粒，導入到管式爐中。

加熱部分（管式爐）：管式爐最高溫度可以達到1200℃。

納米粉收集：收集管直徑為100mm,電壓為30KV，可有效地收集由流動氣體帶過來的納米顆粒.

管式爐-加熱部分：

工作電壓&功率：單相， 220V AC, 50/60 Hz 最大功率 7KW

工作溫度：連續工作溫度：1100℃

最高工作溫度：1200℃（<1h）

推薦升溫速率：≤ 10C/min

加熱元件：Fe-Cr-A1 Alloy doped by Mo，表面涂有氧化鋯涂層

加熱區長度：加熱區：300mm+300mm+300mm=900mm

控溫系統：

•可設置30段升降溫程序，并帶有過熱和斷偶保護

•控溫精度為：+/-1°C

爐管

•采用高純石英管

•石英管尺寸：Φ25*1400mm

密封法蘭

•左端配置有一個KF系列快接法蘭，與霧化裝置相連接，并通過三通連接有一個機械真

空壓力表

•右端配置有一個KF系列的快接法蘭，與靜電收集器相連接

超聲霧化裝置：

超聲霧化儀

• 220VAC ,1.7MHz超聲霧化儀

•液體罐標配為316不銹鋼材質（PTFE及其它材質的罐子可以與銷售聯系進行定制），

并采用氟膠密封圈密封；

•可設置i-8檔霧化量，通過調節檔位大小，控制霧化量的多少；

•可實現連續運行霧化和定時運行霧化兩種功能。定時時間從30分鐘到180分鐘可調

（每隔30分鐘調一檔位）。

氣體流量控制系統

•標準配置有一個浮子流量計，流量計量程為

0.2-2L/min（其它量程可與銷售聯系定制）

•可選配質子流量計控制系統，實現氣體流量的精確控制

液體注射系統

•標準配置有一套液體，用于自動進液

•配置有一個最大容積60m1的塑料針筒，用于盛放液體；

•速度調節范圍:

0.004ml/min—70ml/min

高壓靜電收集裝置：

高壓電源

•輸入：208~240VAC單相，最大功率30W

•數字顯示電壓和電流值，最大輸出電壓為30KV，最大輸出電流為1 mA；

•帶有拉弧保護電路。

靜電收集器

•收集筒進料口為KF25快速接頭，出氣口為外徑Φ12.7mm快速接頭;

•收集筒預留一個KF25快速接頭，用于給收集筒抽真空；

•正極棒和負極筒之間通過PTPE板連接，實現絕緣；

•收集筒最大容積700ml，有效容積150m1。

儀器重量：•約150kg

質保期：一年質保，終身維護（不包含爐管，密封圈和加熱元件）