這款微型PECVD系統，其腔體為 3*dia× 16“L的石英腔體，而且加熱圈在石英腔體內部對樣品進行加熱，此系統配有2通道混氣系統和雙旋機械泵。整套儀器都按放在一個移動架上，以便于實驗操作。等離子腔體內部的最高溫度可以達到400℃，采用程序化控溫。此款小型廉價的PECVD系統對于薄膜生長和納米線的制作是一款很好的選擇。

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廠商性質：代理商
更新時間：2025-03-13
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產地類別	國產	應用領域	化工,能源,電子/電池
溫控方面	采用PID方式調節溫度，同時可設置30段升降溫程序，控溫精度為：+/-1℃

    等離子源：

    等離子體射頻電源：110V或220VAC,50/60Hz,<100W

    輸出頻率：13.56MHz

    三檔射頻功率大小：7.2W.10.5W和18W（可調節）

    腔體尺寸：3"ODx2.7"IDx16"L

    儀器中帶有一套不銹鋼密封法蘭使得腔體內部的真空度為10^-2torr（用機械泵)

    滑動法蘭：

    •有一滑軌法蘭安裝于移動架上，以便于樣品的放入和取出。

    樣品可以放入加熱線圈內，以達到更好的加熱效率和溫度的均勻性。

    •加熱圈尺寸：50mmODx40mmIDx70mm，可使樣品達到的溫度為400℃

    •加熱圈上套有一2"IDx75mmL的石英罩，以減小熱量損失

    •溫控方面:采用PID方式調節溫度，同時可設置30段升降溫程序，控溫精度為：+/-1℃

    輸入電源：AC220V

    兩通道混氣系統：

    •混氣箱上安裝有兩個浮子流量計，其量程為10-100SCCM

    •三個機械壓力表：-0.1-0.15MPa,

    •混氣箱上安裝有304不銹鋼針閥

    •配有三根1/4"的聚四氟乙烯管

    •混氣箱尺寸：340Lx300Dx180H,mm（13.4"x12"x7")!

    凈重:141bs.

    真空和氣體接口：

    標準的真空配置有

    •一套3”的不銹鋼法蘭（上面安裝有KF-25的真空泵接口，一個1/4"卡套接頭和不銹鋼針閥)

    •一根KF25的波紋管（長度為1m)和三KF25卡箍

    •一個數字式真空顯示計

    •等離子腔體中可以通入多種惰性性氣體，如N2,Ar,Air,以及各種混合性氣體。

    •可以調整腔體內的壓力或是進氣流量，確保等離子體達到樣品處

    (注意:不可通入易燃易爆性氣體)

    真空泵：

    •儀器中配有一雙旋機械真空泵，其抽氣速率為120L/min,

    進氣口為KF25接口，可以使腔體內真空度小于30mTorr

    移動架：

    設備中配有—600Lx600Wx600H（mm)的移動架，整個CVD系統可以安置于其上面

    儀器尺寸：

    •等離子源：8.5"Hx10"Wx8"D

    •溫控盒：4"Hx10"Wx8"D

    移動架：600x600x600mm

    重量：

    701b(包含真空泵)

    質保期：

    一年質保期（不包含石英管和密封圈）

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