為使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，常利用等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，這種方法稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PECVD)。加熱爐設(shè)備的內(nèi)爐膛表面涂有美國(guó)進(jìn)口的高溫氧化鋁涂層，可提高設(shè)備的加熱效率，同時(shí)也可延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命。

外型尺寸：

長(zhǎng)*寬*高  2080mm*700mm*1520mm

管爐規(guī)格：

外徑：100mm

內(nèi)徑：96mm×長(zhǎng)：1800

加熱爐主要參數(shù)：

•最高溫度：1200℃

•額定工作溫度：1100℃

•推薦升溫速率:≤10℃/min

•加熱區(qū)長(zhǎng)度：L總：440mm（雙溫區(qū)包括隔環(huán))

溫區(qū)一：200mm

溫區(qū)二：200mm

•加熱爐額定功率：3KW

•滑動(dòng)方式：電動(dòng)控制

•滑動(dòng)最大行程：600mm

•電壓：?jiǎn)蜗?/span>AC 208 - 240V, 50HZ

溫控系統(tǒng)：

•歐陸EPC3000儀表

•模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)功能

•智能化24段可編程控制

•帶過電流過電壓保護(hù)漏電保護(hù)

•電氣元件及電纜，冷壓端子均符合UL認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)

•控溫精度：±0.1℃

•控溫：K型熱電偶兩根

•通訊協(xié)議：modbus RTU

軟件控制：

•可視化運(yùn)行狀態(tài)監(jiān)控

•溫控系統(tǒng)，氣路系統(tǒng)，真空系統(tǒng)，射頻系統(tǒng)，滑動(dòng)爐體，開合爐體，壓力控制，全自動(dòng)化，

•數(shù)據(jù)記錄、過程記錄集成一體

•“預(yù)制工作流程，一鍵自動(dòng)運(yùn)行

•具有恒壓功能，可以設(shè)定氣體流量和恒定壓力

壓力控制：采用TRP-12（抽速3L/s）的雙旋真空泵，在總進(jìn)氣量為100-150sccm，管內(nèi)壓力為 100-130pa，如總進(jìn)氣量高于150sccm時(shí)，請(qǐng)更換抽速更高的泵，測(cè)試為總進(jìn)氣量為1L/min（滿足四路質(zhì)量流量計(jì)全開狀態(tài)時(shí)），使用VRD-60泵（抽速18L/s），最高真空為120-130pa（滿足起輝條件）,可在任意供氣量下設(shè)定任意氣壓值（該氣壓值需大于搭配泵體的最大真空值），氣壓值可自動(dòng)穩(wěn)定

新式快捷法蘭：

可方便快速取放物料

射頻電源：

• 500W射頻電源

•0--500W可調(diào)（穩(wěn)定性±1%）

•射頻頻率：13.56MHZ

•自動(dòng)匹配 風(fēng)冷

•噪音<50dB

•輸入電壓：AC108-250V

供氣系統(tǒng)：

•四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%）

•流量范圍：一路0-100 sccm

二路0-200 sccm

三路0-200 sccm

四路0-500 sccm

注：接入供氣系統(tǒng)的氣源需搭配減壓閥，將氣壓降至2mpa以下

真空系統(tǒng)：

•搭配TRP-12的雙旋真空泵（抽速3L/s）（總進(jìn)氣量小于150sccm，該泵可以達(dá)到等離子發(fā)生真空度）

•搭配TRP-60雙旋真空泵（抽速10L/s）（總進(jìn)氣量1L/min，該泵可以達(dá)到等離子發(fā)生真空度）

• KF25卡箍及波紋管用于連接法蘭與真空泵

•真空度可達(dá)10^-2torr

備注：

注：采用氬氣高于射頻功率200w情況下，需特殊說明，設(shè)備需要特殊改造及測(cè)試；(有法蘭過熱情況)